সেমিকন্ডাক্টর উৎপাদনের ক্ষেত্রে, চিপ উৎপাদন প্রক্রিয়ার নির্ভুলতা নির্ধারণকারী মূল সরঞ্জাম হিসেবে, ফটোলিথোগ্রাফি মেশিনের অভ্যন্তরীণ পরিবেশের স্থিতিশীলতা অত্যন্ত গুরুত্বপূর্ণ। চরম অতিবেগুনী আলোক উৎসের উত্তেজনা থেকে শুরু করে ন্যানোস্কেল নির্ভুলতা গতি প্ল্যাটফর্মের পরিচালনা পর্যন্ত, প্রতিটি লিঙ্কে সামান্যতম বিচ্যুতি হতে পারে না। গ্রানাইট বেস, অনন্য বৈশিষ্ট্যের একটি সিরিজ সহ, ফটোলিথোগ্রাফি মেশিনের স্থিতিশীল ক্রিয়াকলাপ নিশ্চিত করতে এবং ফটোলিথোগ্রাফির নির্ভুলতা বৃদ্ধিতে অতুলনীয় সুবিধা প্রদর্শন করে।
অসাধারণ ইলেক্ট্রোম্যাগনেটিক শিল্ডিং কর্মক্ষমতা
একটি ফটোলিথোগ্রাফি মেশিনের ভেতরের অংশটি একটি জটিল তড়িৎ চৌম্বকীয় পরিবেশে পূর্ণ। অতিবেগুনী রশ্মির উৎস, ড্রাইভ মোটর এবং উচ্চ-ফ্রিকোয়েন্সি পাওয়ার সাপ্লাইয়ের মতো উপাদান দ্বারা উৎপন্ন তড়িৎ চৌম্বকীয় হস্তক্ষেপ (EMI), যদি কার্যকরভাবে নিয়ন্ত্রণ না করা হয়, তাহলে যন্ত্রের মধ্যে নির্ভুল ইলেকট্রনিক উপাদান এবং অপটিক্যাল সিস্টেমের কর্মক্ষমতা মারাত্মকভাবে প্রভাবিত করবে। উদাহরণস্বরূপ, হস্তক্ষেপের ফলে ফটোলিথোগ্রাফি প্যাটার্নে সামান্য বিচ্যুতি হতে পারে। উন্নত উৎপাদন প্রক্রিয়ায়, এটি চিপে ভুল ট্রানজিস্টর সংযোগের দিকে পরিচালিত করার জন্য যথেষ্ট, যা চিপের উৎপাদন উল্লেখযোগ্যভাবে হ্রাস করে।
গ্রানাইট একটি অধাতুবিহীন উপাদান এবং নিজে থেকে বিদ্যুৎ পরিচালনা করে না। ধাতব পদার্থের মতো ভিতরে মুক্ত ইলেকট্রনের চলাচলের কারণে কোনও তড়িৎ চৌম্বকীয় আবেশন ঘটনা ঘটে না। এই বৈশিষ্ট্যটি এটিকে একটি প্রাকৃতিক তড়িৎ চৌম্বকীয় শিল্ডিং বডি করে তোলে, যা কার্যকরভাবে অভ্যন্তরীণ তড়িৎ চৌম্বকীয় হস্তক্ষেপের সংক্রমণ পথকে অবরুদ্ধ করতে পারে। যখন বহিরাগত তড়িৎ চৌম্বকীয় হস্তক্ষেপ উৎস দ্বারা উৎপন্ন বিকল্প চৌম্বক ক্ষেত্র গ্রানাইট বেসে ছড়িয়ে পড়ে, যেহেতু গ্রানাইট অ-চৌম্বকীয় এবং চুম্বকীয় করা যায় না, বিকল্প চৌম্বক ক্ষেত্রটি প্রবেশ করা কঠিন, যার ফলে বেসে স্থাপিত ফটোলিথোগ্রাফি মেশিনের মূল উপাদানগুলিকে, যেমন নির্ভুলতা সেন্সর এবং অপটিক্যাল লেন্স সমন্বয় ডিভাইসগুলিকে, ইলেক্ট্রোম্যাগনেটিক হস্তক্ষেপের প্রভাব থেকে রক্ষা করে এবং ফটোলিথোগ্রাফি প্রক্রিয়া চলাকালীন প্যাটার্ন স্থানান্তরের নির্ভুলতা নিশ্চিত করে।
চমৎকার ভ্যাকুয়াম সামঞ্জস্য
যেহেতু অতিবেগুনী রশ্মি (EUV) বায়ু সহ সকল পদার্থ দ্বারা সহজেই শোষিত হয়, তাই EUV লিথোগ্রাফি মেশিনগুলিকে ভ্যাকুয়াম পরিবেশে কাজ করতে হবে। এই সময়ে, ভ্যাকুয়াম পরিবেশের সাথে সরঞ্জামের উপাদানগুলির সামঞ্জস্য বিশেষভাবে গুরুত্বপূর্ণ হয়ে ওঠে। ভ্যাকুয়ামে, পদার্থগুলি দ্রবীভূত, শোষণ এবং গ্যাস ছেড়ে দিতে পারে। নির্গত গ্যাস কেবল EUV আলো শোষণ করে না, আলোর তীব্রতা এবং সংক্রমণ দক্ষতা হ্রাস করে, বরং অপটিক্যাল লেন্সগুলিকে দূষিতও করতে পারে। উদাহরণস্বরূপ, জলীয় বাষ্প লেন্সগুলিকে জারিত করতে পারে এবং হাইড্রোকার্বন লেন্সগুলিতে কার্বন স্তর জমা করতে পারে, যা লিথোগ্রাফির গুণমানকে মারাত্মকভাবে প্রভাবিত করে।
গ্রানাইটের রাসায়নিক বৈশিষ্ট্য স্থিতিশীল এবং ভ্যাকুয়াম পরিবেশে খুব কমই গ্যাস নির্গত হয়। পেশাদার পরীক্ষার মতে, একটি সিমুলেটেড ফটোলিথোগ্রাফি মেশিন ভ্যাকুয়াম পরিবেশে (যেমন অতি-পরিষ্কার ভ্যাকুয়াম পরিবেশ যেখানে আলোকসজ্জা অপটিক্যাল সিস্টেম এবং প্রধান চেম্বারে ইমেজিং অপটিক্যাল সিস্টেম অবস্থিত, যার জন্য H₂O < 10⁻⁵ Pa, CₓHᵧ < 10⁻⁷ Pa প্রয়োজন), গ্রানাইট বেসের গ্যাস নির্গমন হার অত্যন্ত কম, ধাতুর মতো অন্যান্য উপকরণের তুলনায় অনেক কম। এটি ফটোলিথোগ্রাফি মেশিনের অভ্যন্তরকে দীর্ঘ সময়ের জন্য উচ্চ ভ্যাকুয়াম ডিগ্রি এবং পরিচ্ছন্নতা বজায় রাখতে সক্ষম করে, ট্রান্সমিশনের সময় EUV আলোর উচ্চ ট্রান্সমিট্যান্স এবং অপটিক্যাল লেন্সের জন্য একটি অতি-পরিষ্কার ব্যবহারের পরিবেশ নিশ্চিত করে, অপটিক্যাল সিস্টেমের পরিষেবা জীবন প্রসারিত করে এবং ফটোলিথোগ্রাফি মেশিনের সামগ্রিক কর্মক্ষমতা উন্নত করে।
শক্তিশালী কম্পন প্রতিরোধ ক্ষমতা এবং তাপীয় স্থিতিশীলতা
ফটোলিথোগ্রাফি প্রক্রিয়া চলাকালীন, ন্যানোমিটার স্তরের নির্ভুলতার জন্য ফটোলিথোগ্রাফি মেশিনে সামান্যতম কম্পন বা তাপীয় বিকৃতি থাকা উচিত নয়। কর্মশালায় অন্যান্য সরঞ্জাম এবং কর্মীদের চলাচলের ফলে সৃষ্ট পরিবেশগত কম্পন, সেইসাথে ফটোলিথোগ্রাফি মেশিন নিজেই অপারেশন চলাকালীন উৎপন্ন তাপ, সবই ফটোলিথোগ্রাফির নির্ভুলতায় হস্তক্ষেপ করতে পারে। গ্রানাইটের উচ্চ ঘনত্ব এবং শক্ত জমিন রয়েছে এবং এর চমৎকার কম্পন প্রতিরোধ ক্ষমতা রয়েছে। এর অভ্যন্তরীণ খনিজ স্ফটিক কাঠামো কম্প্যাক্ট, যা কার্যকরভাবে কম্পন শক্তিকে হ্রাস করতে পারে এবং দ্রুত কম্পন বিস্তারকে দমন করতে পারে। পরীক্ষামূলক তথ্য দেখায় যে একই কম্পন উৎসের অধীনে, গ্রানাইট বেস 0.5 সেকেন্ডের মধ্যে কম্পনের প্রশস্ততা 90% এরও বেশি কমাতে পারে। ধাতব বেসের সাথে তুলনা করে, এটি সরঞ্জামগুলিকে আরও দ্রুত স্থিতিশীলতায় পুনরুদ্ধার করতে পারে, ফটোলিথোগ্রাফি লেন্স এবং ওয়েফারের মধ্যে সুনির্দিষ্ট আপেক্ষিক অবস্থান নিশ্চিত করে এবং কম্পনের কারণে সৃষ্ট প্যাটার্ন ঝাপসা বা ভুল সারিবদ্ধতা এড়াতে পারে।
এদিকে, গ্রানাইটের তাপীয় প্রসারণের সহগ অত্যন্ত কম, প্রায় (4-8) ×10⁻⁶/℃, যা ধাতব পদার্থের তুলনায় অনেক কম। ফটোলিথোগ্রাফি মেশিনের অপারেশনের সময়, আলোর উৎস থেকে তাপ উৎপাদন এবং যান্ত্রিক উপাদানগুলির ঘর্ষণের মতো কারণগুলির কারণে অভ্যন্তরীণ তাপমাত্রা ওঠানামা করলেও, গ্রানাইট বেস মাত্রিক স্থিতিশীলতা বজায় রাখতে পারে এবং তাপীয় প্রসারণ এবং সংকোচনের কারণে উল্লেখযোগ্য বিকৃতির মধ্য দিয়ে যাবে না। এটি অপটিক্যাল সিস্টেম এবং নির্ভুল গতি প্ল্যাটফর্মের জন্য স্থিতিশীল এবং নির্ভরযোগ্য সহায়তা প্রদান করে, ফটোলিথোগ্রাফির নির্ভুলতার ধারাবাহিকতা বজায় রাখে।
পোস্টের সময়: মে-২০-২০২৫